[发明专利]抛光设备及抛光方法在审
| 申请号： | 202011377841.6 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN114571354A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 倪震威;季文明;蒋策策;方瑞鸿 | 申请（专利权）人： | 上海新昇半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/005 | 分类号： | B24B37/005;B24B37/07;B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区中国（上海）自由*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种抛光设备及方法。设备包括光电传感器、反射模块、抛光头、抛光垫、抛光轴及驱动装置；反射模块固定于抛光轴上，反射模块上设置有反射区；光电传感器包括发射单元及接收单元，发射单元朝反射模块发射信号，接收单元接收自反射区反射的信号，抛光头固定于抛光轴的底部，且位于抛光垫的上方；驱动装置与抛光轴相连接，用于驱动抛光轴旋转，由此带动抛光头及发射模块旋转，通过计算发射单元发射的信号被反射模块的反射区反射至接收单元的次数可获知抛光头的实际旋转转速。本发明利用光反射原理，可以实时地监控到抛光头的实际转速值，并且可在机台外部便可获知转速读值，可减少转速异常对工艺的不良影响，有助于提高硅片抛光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 设备 方法 | ||
【主权项】：
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