[发明专利]发光装置、光学装置以及测量装置在审
| 申请号： | 202011381393.7 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN113314950A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 井口大介;逆井一宏 | 申请（专利权）人： | 富士胶片商业创新有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/042 | 分类号： | H01S5/042;H01S5/42;G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 日本东京*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种发光装置、光学装置以及测量装置，发光装置包括：配线基板，具有第一配线层、及经由绝缘层而与所述第一配线层邻接的第二配线层；以及激光部，具有阴极电极及阳极电极，搭载于所述配线基板而受到低侧驱动，其中，与所述阴极电极连接的阴极配线、及与所述阳极电极连接的阳极配线被设在所述第一配线层，连接于基准电位的基准电位配线被设在所述第一配线层及所述第二配线层，所述第二配线层的基准电位配线与所述阳极配线重合的面积，比所述第二配线层的基准电位配线与所述第一配线层的基准电位配线重合的面积大。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 光学 以及 测量 | ||
【主权项】：
暂无信息
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