[发明专利]一种应用于投影光刻机的单倍率大视场投影曝光物镜在审
| 申请号： | 202011382807.8 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN112415865A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 杨超;朱咸昌;唐燕;胡松;刘锡;金川;刘磊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种应用于投影光刻机的单倍率大视场投影曝光物镜，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。投影曝光物镜是光刻机的核心部件，决定了光刻机的主要性能。本发明所涉及的单倍率投影曝光物镜由12片透镜组成，其光学结构为双方远心结构。物镜分辨力6μm，放大倍率为‑1，曝光视场为110mm×110mm。本投影物镜共轭距总长(物方到像方)为L＝1000mm，系统结构紧凑；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，满足大视场投影光刻机的高精度及高产率需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 投影 光刻 倍率 视场 曝光 物镜 | ||
【主权项】：
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