[发明专利]用于晶圆封装领域的化学镀钯溶液及其制备方法有效
申请号: | 202011385245.2 | 申请日: | 2020-11-30 |
公开(公告)号: | CN112609172B | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 洪学平;姚吉豪 | 申请(专利权)人: | 江苏矽智半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/44 | 分类号: | C23C18/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 226400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种用于晶圆封装领域的化学镀钯溶液及其制备方法,以质量浓度为单位,包括以下浓度的组分:硫酸四氨钯25‑30g/L;络合剂30‑60g/L;苹果酸5‑10g/L;多氨基多醚基甲叉膦酸5‑15g/L;糖精5‑9g/L;还原剂2‑55‑9g/L;配位剂0.1‑10g/L;稳定剂0.2‑0.4g/L;界面活性剂0.05~0.2g/L。将上述硫酸四氨钯、柠檬酸、苹果酸、多氨基多醚基甲叉膦酸、糖精、配位剂、稳定剂及界面活性剂按上述的比例混合后,采用缓冲剂调节pH值6.5‑8.5之间后形成镀钯溶液,且调制温度为50‑60℃、镀钯时间为5‑15min。使用本发明镀钯溶液得到镀层结构很致密,镀层结晶细致均匀。 | ||
搜索关键词: | 用于 封装 领域 化学 溶液 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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