[发明专利]一种激光沉积成形过程监测装置与双闭环控制方法在审

专利信息
申请号: 202011387803.9 申请日: 2020-12-01
公开(公告)号: CN112643058A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 赵凯;杨萍;郝云波;朱忠良;梁旭东;张春杰;赵维刚 申请(专利权)人: 上海航天设备制造总厂有限公司
主分类号: B22F12/90 分类号: B22F12/90;B22F10/85;B22F10/31;B22F10/36;B22F10/28;B22F3/105;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/02
代理公司: 上海航天局专利中心 31107 代理人: 余岢
地址: 200245 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种激光沉积成形过程监测装置与双闭环控制方法,该装置包括测距传感器、熔池观测传感器和控制单元。该双闭环控制方法中,包括外环控制方法和内环控制方法。外环控制方法中,包括测距传感器,安装在加工头侧面,使激光束与工件加工面垂直,测量加工头与加工表面的距离,控制系统将所测距离与预设距离进行对比,得出加工头与加工表面的距离误差,距离误差作为闭环控制算法的输入,被控工艺参数提升量的调整变化值作为输出。内环控制方法中,包括熔池观测传感器,同轴或旁轴安装在加工头上,获取熔池的形状、尺寸信息,控制单元根据预存熔池数据库得出熔池数据偏差量,被控工艺参数的变化量激光功率、送粉速度的调整变化值作为输出。
搜索关键词: 一种 激光 沉积 成形 过程 监测 装置 闭环控制 方法
【主权项】:
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