[发明专利]一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜在审

专利信息
申请号: 202011389068.5 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112505813A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 卢世义 申请(专利权)人: 广州鑫铂颜料科技有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28
代理公司: 广州中研专利代理有限公司 44692 代理人: 马会强
地址: 510000 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种具有小角度效应的高饱和度全介质薄膜,属于薄膜技术领域,包括玻璃基层和折射膜层组成,折射膜层由多层的高折射率膜层和多层的低折射率膜层交替层叠组成,全介质薄膜反射率大于85%;全介质薄膜的反射光谱从截止区到高反射区的过段波段斜率为1.1‑1.4之间,600nm以下波长为截止区间;全介质薄膜反射在600‑800nm红色颜色映射上介于0‑45°之间具有较小的偏移色差,Lab*a*b颜色映射在30‑45°之间;本发明的薄膜结构颜色偏移效果不明显,可有效的满足角度不敏感性的需要,且薄膜的结构色具有不褪色,且具有环保、金属闪烁效果和随角异色等特点可广泛在各个领域中应用。
搜索关键词: 一种 具有 角度 效应 饱和度 介质 薄膜
【主权项】:
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