[发明专利]一种焦面测量装置及缺陷检测设备有效
| 申请号： | 202011390083.1 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN112649435B | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 兰艳平 | 申请（专利权）人： | 上海御微半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中国*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种焦面测量装置及缺陷检测设备，包括：测焦光源、测焦标记版、光学组件、成像单元、焦面补偿结构和控制单元；测焦光源用于提供斜入射的第一照明光束，测焦标记版包括至少一组测焦图形，每组测焦图形包括至少3个子标记，第一照明光束投射至测焦标记版后，测焦图形被投射至测试样件表面上并产生反射光束；焦面补偿结构位于成像单元的成像面一侧，用于改变反射光束的传输路径，以使反射光束经光学组件汇聚后的成像面位于成像单元的接收面，形成至少一组信号图像，每组信号图像包括至少3个子图案；控制单元根据至少一个子图案的位置，获取测试样件的垂向高度。本发明实现了测焦点和缺陷检测点同轴测量，提高了焦面测量的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测量 装置 缺陷 检测 设备 | ||
【主权项】：
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