[发明专利]一种晶圆的缺陷分析方法和系统在审
申请号: | 202011391617.2 | 申请日: | 2020-12-03 |
公开(公告)号: | CN112200806A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 徐东东;胡周 | 申请(专利权)人: | 晶芯成(北京)科技有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/60;H01L21/67 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 朱艳 |
地址: | 102199 北京市大兴区经济技术开发*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种晶圆的缺陷分析方法和系统,该方法包括以下步骤:建立晶圆的缺陷自动识别系统;收集所述晶圆的各种缺陷的致死率数据,形成致死率计算库;根据所述缺陷自动识别系统,对机台扫描的晶圆表面缺陷样本图片进行自动识别分类;以及根据所述致死率计算库,对分类后的所述晶圆表面缺陷样本图片进行计算分析;形成分析结论和/或参考决策的数据信息。本发明可减少不同工程师在分析过程中的主观误差错误,相互协作统筹效率低下等问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 缺陷 分析 方法 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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