[发明专利]清洁装置及曝光机在审

专利信息
申请号: 202011392120.2 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112657946A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 何鹏达;云家勇 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: B08B5/04 分类号: B08B5/04;B08B6/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 裴磊磊
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请实施例公开了一种清洁装置及曝光机,其中,该清洁装置包括:壳体,包括底板和侧壁;吸嘴,设置在所述底板上,所述吸嘴用于将承载台上的尘粒吸入其内;静电吸附件,固定在所述壳体上,所述静电吸附件包括第一吸附部和第二吸附部,所述第一吸附部设于所述吸嘴的第一侧,所述第二吸附部设于所述吸嘴的第二侧;导出管,与所述吸嘴连接,用于将所述吸嘴内的尘粒导出。本申请实施例的清洁装置及曝光机,可以提高清洁效果。
搜索关键词: 清洁 装置 曝光
【主权项】:
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