[发明专利]一种无源空腔型单晶薄膜体声波谐振器结构及制备方法有效

专利信息
申请号: 202011392791.9 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112532195B 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 董树荣;轩伟鹏;金浩;骆季奎 申请(专利权)人: 海宁波恩斯坦生物科技有限公司
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02;H03H9/02;H03H9/17
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 贾玉霞
地址: 314402 浙江省嘉兴市海宁市海*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开一种无源空腔型单晶薄膜体声波谐振器结构,其包括支撑衬底、依次设置在支撑衬底上的键合黏附层、外延衬底层和单晶压电层,以及上电极和下电极;键合黏附层和外延衬底层的部分区域缺失,使得支撑衬底和单晶压电层之间形成一空腔;上电极、下电极分别位于单晶压电层远离支撑衬底的上下两侧,且下电极位于空腔内;第一互联金属层覆盖部分单晶压电层,并通过单晶压电层中的贯通孔与下电极连接;第二互联金属层覆盖部分单晶压电层和部分上电极层。本发明采用单晶压电材料作为FBAR的压电薄膜,能够获得更小的损耗、更大的Q值和更高的机电耦合系数,极大地提升FBAR的性能,能够满足5GHz及以上频段的高性能应用需求。
搜索关键词: 一种 无源 空腔 型单晶 薄膜 声波 谐振器 结构 制备 方法
【主权项】:
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