[发明专利]一种高选择性的蚀刻液有效
| 申请号： | 202011395563.7 | 申请日： | 2020-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN112608754B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 张庭;贺兆波;李鑫;李金航;尹印;万杨阳;王书萍;倪高国 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种高选择性的蚀刻液，用于高选择性的蚀刻热法二氧化硅和氮化硅，主要成分包括氢氟酸、氟化氢铵、活性剂以及超纯水。本发明的蚀刻液中氢氟酸起到蚀刻的作用；氟化氢铵用于提供HF |
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| 搜索关键词： | 一种 选择性 蚀刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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