[发明专利]多个光学系统的扫描场对准有效
| 申请号： | 202011399050.3 | 申请日： | 2020-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN112893873B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 尼古拉斯·爱德华·布尔 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B22F10/36 | 分类号： | B22F10/36;B22F12/45;B22F3/105;B33Y10/00;B33Y30/00 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 徐颖聪 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于增材制造过程的校准束扫描场的方法，其中两个或更多个辐射能量束用于选择性地熔化材料以形成工件。该方法包括：使用单独的束转向机构来引导两个或更多个辐射能量束，以在基板上创建校准构建图案，该校准构建图案包括由两个或更多个辐射能量束中的每一个创建的至少一个测量伪影；测量测量伪影的位置；比较测量伪影的位置与标准，以识别对准误差；以及调整束转向机构中的至少一个以补偿对准误差。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 扫描 对准 | ||
【主权项】：
暂无信息
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