[发明专利]可充胀装置的掩模式制造在审

专利信息
申请号: 202011400548.7 申请日: 2020-12-04
公开(公告)号: CN112918385A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: P·W·亚历山大;W·M·金;J·E·伦茨;D·布赖;L·A·G·穆诺茨;B·万;P·Q·鲍尔斯;P·K·肯尼;K·本利 申请(专利权)人: 通用汽车环球科技运作有限责任公司
主分类号: B60R7/04 分类号: B60R7/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 佘鹏;王丽辉
地址: 美国密*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及可充胀装置的掩模式制造。一种多层囊体包括:第一囊体层;包括多个孔的掩模;第二囊体层,其在所述掩模中的所述孔内以及在所述第一囊体层和所述第二囊体层之间不存在所述掩模的位置处结合到所述第一囊体层,其中,所述掩模被构造成防止所述第二囊体层在存在所述掩模的位置处结合到所述第一囊体层;以及流体通道,其位于所述第一囊体层和所述第二囊体层之间,并且从所述多层囊体的外边缘延伸到所述掩模。
搜索关键词: 可充胀 装置 模式 制造
【主权项】:
暂无信息
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