[发明专利]一种基于等离子气相沉积的金刚石薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种基于等离子气相沉积的金刚石薄膜及其制备方法。金刚石薄膜的制备方法包括以下步骤；1、取以下各重量份原料；纳米金刚石微粉75‑80份、丙烯酸甲酯12‑15份、分散剂12‑15份、硬脂酸钠1‑3份经过分步处理，得到纳米金刚石混合液；2、采用化学镀，制得镍‑氮化硅基底，再对镍‑氮化硅基底进行海藻酸钠改性；3、上述处理得到的基底置于纳米金刚石混合液中，超声震荡，吸附、烘干；4、将上述得到的基底，置于微波等离子沉积设备中，进行氢化处理，最终得到金刚石薄膜。本方法制备的金刚石薄膜与基底的附着力强，不易脱落；金刚石薄膜的韧性和耐摩擦性能较好。