[发明专利]光场成像系统及光场成像方法有效
| 申请号： | 202011404881.5 | 申请日： | 2020-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN112702474B | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 吕南方;张存林;左剑 | 申请（专利权）人： | 首都师范大学 |
| 主分类号： | H04N5/14 | 分类号： | H04N5/14;H04N5/232;G03B15/02 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 李平;陈英俊 |
| 地址： | 100048 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种光场成像系统，包括：光源装置，向被测目标发射特定频率范围的电磁波束；光场采集装置，接收由所述被测目标反射的电磁波束形成的4D光场；以及图像处理单元，对所述光场采集装置接收到的4D光场进行处理而生成所述被测目标的4D光场信息；其中，图像处理单元执行以下处理：获取所述被测目标的4D光场信息；利用所述4D光场信息，计算所述4D光场信息中的高光图像；结合所述高光图像对所述4D光场信息进行强度‑方向滤波和重构，获得所述4D光场信息层析后的重构图像。根据上述结构，实现了对特定多层材料的逐层分辨与分别重构成像，避免了传统方法中来自不同层信息的混杂。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于首都师范大学，未经首都师范大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011404881.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
