[发明专利]一种用于光刻机照明系统的自由光瞳生成方法在审
| 申请号： | 202011406432.4 | 申请日： | 2020-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN112462577A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 牛志元;施伟杰 | 申请（专利权）人： | 东方晶源微电子科技（北京）有限公司深圳分公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 | 代理人： | 王琴 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市福田区福*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于光刻机照明系统的自由光瞳生成方法，在该方法中，具体实现采用Python脚本语言编写，该优化方法分为两大部分功能：首先，把微反射镜数目作为一个连续而非离散的变量进行连续函数的优化，得到连续反射镜数条件下的优化结果；然后，由于反射镜数实际是整数，将连续的反射镜数进行离散化以得到最终的优化结果。本发明提供的技术方案实际产生的自由光瞳与理想光瞳光刻性能相匹配，对反射镜光斑的位置进行优化进一步缩小了误差，有利于提高光刻工艺的分辨率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光刻 照明 系统 自由 生成 方法 | ||
【主权项】：
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