[发明专利]一种点阵光谱测量装置、面阵色度测量装置及方法在审
申请号: | 202011406455.5 | 申请日: | 2020-12-04 |
公开(公告)号: | CN112197863A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 冯晓帆;罗时文;郑增强;洪志坤 | 申请(专利权)人: | 武汉精测电子集团股份有限公司;武汉精立电子技术有限公司 |
主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28;G01J3/46 |
代理公司: | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人: | 张凯 |
地址: | 430205 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请涉及一种点阵光谱测量装置、面阵色度测量装置及方法,涉及光谱测量技术领域,该点阵光谱测量装置包括:物镜,其用于对目标进行成像;点扫描组件,用于以二维点阵形式采集物镜对目标的成像,得到二维点阵光,并将二维点阵光转换成一维点阵光后出射;准直色散组件,其用于对一维点阵光进行准直处理、色散处理以及聚焦处理;成像组件,其用于对经过准直处理、色散处理以及聚焦处理的一维点阵光成像,获得二维点阵光中各束光的光谱信息。本申请将二维点阵光转化为一维点阵光,并结合准直色散处理,获得二维点阵光中各束光的光谱信息,从而能够应用于空间多点光谱测试,提高光谱测试效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 点阵 光谱 测量 装置 色度 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉精测电子集团股份有限公司;武汉精立电子技术有限公司,未经武汉精测电子集团股份有限公司;武汉精立电子技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011406455.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。