[发明专利]一种阵列基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011408407.X 申请日: 2020-12-04
公开(公告)号: CN112542470A 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 翟玉浩 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 裴磊磊
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供一种阵列基板及其制备方法,所述阵列基板包括基板;开关薄膜晶体管,阵列的设置于所述基板上;感光薄膜晶体管,设置于所述基板上;所述开关薄膜晶体管与所述感光薄膜晶体管同层且间隔设置;其中,所述开关薄膜晶体管包括位于所述基板上的第一半导体层和遮光层;所述感光薄膜晶体管包括位于基板上的第二半导体层。本申请通过采用同一道光罩制程制备所述遮光层、所述第一半导体层以及所述第二半导体层,减少了阵列基板的制作流程,降低使用现有技术的生产成本以及提高产能效益;同时,保留所述第一半导体层上方的遮光层,在保证了所述开关薄膜晶体管特性的同时,避免了光照对所述开关薄膜晶体管特性的影响。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
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