[发明专利]用于在环境光条件下生成图像数据的成像系统和方法在审
| 申请号： | 202011410095.6 | 申请日： | 2020-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN113014835A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 东堤良仁 | 申请（专利权）人： | 半导体元件工业有限责任公司 |
| 主分类号： | H04N5/369 | 分类号： | H04N5/369;H04N5/378;H01L27/146 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 陈华成 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及用于在环境光条件下生成图像数据的成像系统和方法。本发明公开了一种成像系统，该成像系统可包括用于生成光脉冲的光源和用于收集来自所生成的光脉冲的反射光的图像传感器。该图像传感器可包括像素阵列，该像素阵列各自具有光敏元件、浮动扩散区和插置在该光敏元件和该浮动扩散区之间的两个电荷存储结构。电位势垒结构可插置在该光敏元件和该两个电荷存储结构之间。该光敏元件可响应于环境光而生成电荷并且可使用所生成的电荷设置该电位势磊结构的该电位势磊电平。该成像系统可使用每个像素中的该电位势垒结构来执行飞行时间信息生成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 环境 条件下 生成 图像 数据 成像 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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