[发明专利]一种钛合金低温氧氮化超硬超厚渗层及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202011410791.7 | 申请日： | 2020-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN112522664B | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 牛云松;杨延格;王海峰;朱圣龙 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C23C8/36 | 分类号： | C23C8/36 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 于晓波 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种钛合金低温氧氮化超硬超厚渗层及其制备方法和应用，属于金属材料表面处理技术领域。在钛合金部件表面上，通过低温等离子渗氧及后续的等离子氧氮化处理复合处理方案，获得表面超硬且渗层超厚的耐磨耐腐蚀氧氮化渗层。所述复合处理工艺控制温度在620～650℃范围内，渗层的表面硬度在Hv |
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| 搜索关键词： | 一种 钛合金 低温 氮化 超硬超厚渗层 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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