[发明专利]一种基于二维范德华异质结构的单分子场效应晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011410961.1 申请日: 2020-12-06
公开(公告)号: CN112582542B 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 郭雪峰;李佩慧;贾传成;常新月 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40
代理公司: 天津耀达律师事务所 12223 代理人: 张耀
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种基于二维范德华异质结构的单分子场效应晶体管及其制备方法,属于新材料以及分子场效应晶体管领域。由导电二维材料栅电极层、绝缘二维材料介质层、基于石墨烯点电极的单分子异质结以及保护层构成,制备方法包括1)二维叠层组装;2)作为器件各组成部分的二维材料具有原子级可控平整度和厚度;3)范德华异质结构的稳定性;4)与石墨烯基单分子异质结的结合。本发明通过不同二维材料的范德华堆叠组装,形成范德华异质结构。使得器件的介质层和栅极达到原子级平整并且原子层可控,实现单分子场效应晶体器件的精准控制制备,而使用六方氮化硼或氮化镓作为保护层对器件进行封装,大大减小了外界环境对器件的干扰,提高了器件的稳定性。
搜索关键词: 一种 基于 二维 范德华异质 结构 分子 场效应 晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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