[发明专利]一种步进式光刻机、其工作方法及图形对准装置在审
| 申请号： | 202011412793.X | 申请日： | 2020-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN112445088A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 周向前;尹志尧;朗格诺;杜川 | 申请（专利权）人： | 百及纳米科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈斌 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种步进式光刻机、其光刻图形对准装置及工作方法。本发明在晶圆上设置若干三维标记，以此作为晶圆表面定位的坐标预设，利用针尖传感头传感技术测量该三维标记获得晶圆表面亚纳米精度的坐标，然后移动晶圆工作台，随之测得晶圆工作台移动后的三维标记的新坐标并同晶圆工作台移动前同样的三维纳米坐标比较得出晶片区域位置坐标误差值。利用闭环控制原理将这个坐标误差通过移动曝光束发生装置同晶片区域的相对位置进行补偿，实现相对坐标位置的重新精确对准。本发明可以应用在使用掩模板的深紫外和极紫外光学光刻机，也可以应用在电子束/光子束直写式光刻机的亚纳米级晶片区域或写场横向和纵向对准拼接等应用场景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 步进 光刻 工作 方法 图形 对准 装置 | ||
【主权项】：
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