[发明专利]光刻装置及其中的基底传输方法在审
| 申请号： | 202011413536.8 | 申请日： | 2020-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN114609870A | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 吴福龙;阮冬 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻装置及其中的基底传输方法，所述光刻装置包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉，所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件。所述板叉臂上设置有至少两个吸附组件，通过这种在所述板叉臂上设置多个吸附组件的结构，可在不增加板叉臂长度的基础上实现传送多块基底的功能，有效提高了光刻装置的产率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 及其 中的 基底 传输 方法 | ||
【主权项】：
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