[发明专利]一种抛光装置有效

专利信息
申请号: 202011419911.X 申请日: 2020-12-08
公开(公告)号: CN112405330B 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 杨渊思;徐枭宇;周智鹏 申请(专利权)人: 杭州众硅电子科技有限公司
主分类号: B24B37/07 分类号: B24B37/07;B24B37/34
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 丁曼曼
地址: 311305 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种抛光装置,包括基座,基座设有抛光头座,抛光头座设有两个用以固定晶圆的抛光头和位于两抛光头之间用以带动两抛光头移动的直线驱动机构。抛光工艺过程中,基座位于抛光台的上方,抛光头带动晶圆自转,同时直线驱动机构同时带动两片晶圆直线平移扫略。沿直线扫略会使抛光液分布更加均匀,同时抛光垫磨损也更加均匀因而两片晶圆的抛光一致性能够显著提高。同一批次的晶圆抛光相同,保证了产品的质量稳定,简化了后续处理过程中检测产品质量的步骤。
搜索关键词: 一种 抛光 装置
【主权项】:
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