[发明专利]混合像元双线性深层解混方法、系统、应用及存储介质在审

专利信息
申请号: 202011420622.1 申请日: 2020-12-08
公开(公告)号: CN112529865A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 苏远超;李军;李朋飞;王丹;杜光辉 申请(专利权)人: 西安科技大学;中山大学
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06N3/04;G06N3/08
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 封浪
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种混合像元双线性深层解混方法、系统、应用及存储介质。本发明首先构建一个深层双线性光谱混合模型;然后建立两个深度自编码器来分层对应深层双线性混合模型,采用多任务处理模式对两个深度自编码器进行无监督联合训练,学习出端元、丰度及表征二阶散射的散射参数。本发明在构建解混方法时考虑了二阶散射作用对光谱混合产生的影响,在光谱混合的建模方面更接近高光谱遥感器成像机理的实际情况,能有效抑制散射效应带来的负面影响,最终得到比传统方法精度更高的端元和丰度。同时,利用散射参数能将散射效应的影响情况进行可视化,能直观地反映出散射效应在高光谱图像中的分布情况,为用户分析散射效应分布的合理性提供便利。
搜索关键词: 混合 双线 深层 方法 系统 应用 存储 介质
【主权项】:
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