[发明专利]二异氰酸酯组合物、其制备方法以及使用其的光学材料有效

专利信息
申请号: 202011431226.9 申请日: 2020-12-07
公开(公告)号: CN112920373B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 裵栽荣;金正武;韩赫熙;明正焕;甄明玉;郑周永 申请(专利权)人: SKC株式会社;宇利精密化学株式会社
主分类号: C08G18/76 分类号: C08G18/76;C08G18/38;G02B1/04
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 王卫彬
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了二异氰酸酯组合物、其制备方法以及使用其的光学材料。根据本发明的实施方案的二异氰酸酯组合物在所述组合物中包含5ppm至200ppm的量的具有甲基基团的异氰酸苄基酯、5ppm至1,000ppm的量的具有卤素基团的芳族化合物、1ppm至1,000ppm的量的具有乙基基团的异氰酸苄基酯、或其组合。可以通过防止出现黄变、条纹和浑浊来改善光学特性并同时增强机械特性诸如耐冲击性。因此,其可以有利地制备高品质的光学材料。
搜索关键词: 氰酸 组合 制备 方法 以及 使用 光学材料
【主权项】:
暂无信息
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