[发明专利]一种基于飞秒激光技术的阶跃型等栅距光栅及其制备方法有效
申请号: | 202011431427.9 | 申请日: | 2020-12-07 |
公开(公告)号: | CN112558215B | 公开(公告)日: | 2023-01-13 |
发明(设计)人: | 祝连庆;何巍;袁宏伟;张雯;董明利;李红;何彦霖 | 申请(专利权)人: | 北京信息科技大学 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 北京恒律知识产权代理有限公司 11416 | 代理人: | 王琦;庞立岩 |
地址: | 100085 北京市海淀区清*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种基于飞秒激光技术的阶跃型等栅距光栅及其制备方法,该方法利用飞秒激光技术在光纤基底材料上刻写三个光栅周期的等距光栅,其中第三光栅周期第二光纤周期第一光纤周期,并且三个光线周期呈等差数列,形成阶跃型等栅距光栅,该阶跃型等栅距光栅制备工艺简单,成本低,并且可以精确的控制刻写工艺,控制光栅栅线间距,制备精密的阶跃型等栅距光纤,用于位移传感器。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 激光 技术 阶跃 光栅 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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