[发明专利]在子采样引起失真下借由低相干光干涉技术确定机体与物体表面的间隔距离的方法及系统在审
| 申请号： | 202011431703.1 | 申请日： | 2020-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN112923856A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 西蒙·多那太罗;芭芭拉·普雷维塔利;达妮埃尔·科伦坡 | 申请（专利权）人： | 艾迪奇股份公司 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G01B9/02;B23K26/70 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 孙玲 |
| 地址： | 意大利特兰托*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述了一种用于确定物体或材料与物体或材料的加工刀具或测量仪器之间的间隔距离的方法和系统，包括：产生低相干光辐射的测量光束，导引该测量光束射向物体，并导引自物体反射或漫射的测量光束沿第一入射方向射向光干涉传感器机构；产生低相干光辐射的参考光束，并导引参考光束相对于测量光束的第一入射方向以预设入射角度沿第二入射方向射向光干涉传感器机构；使测量光束和参考光束叠加在传感器机构的公共入射区域上；检测测量光束与参考光束之间的干涉条纹图案在入射区域上的位置；以及基于干涉条纹图案沿着入射区域的照射轴的位置，确定测量光路与参考光路之间的光程差，这表示以下二者之差：(a)加工刀具或测量仪器与物体表面之间的当前间隔距离，(b)预定标称间隔距离，其中，传感器机构包括沿着照明轴的光电探测器布置，并以此方式控制入射角度，即干涉条纹图案的空间频率大于光电探测器的空间频率。 | ||
| 搜索关键词： | 采样 引起 失真 相干光 干涉 技术 确定 机体 物体 表面 间隔 距离 方法 系统 | ||
【主权项】：
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