[发明专利]深度成像系统及其标定方法、深度成像方法、存储介质在审
申请号: | 202011433023.3 | 申请日: | 2020-12-09 |
公开(公告)号: | CN112598719A | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 张芊 | 申请(专利权)人: | 北京芯翌智能信息技术有限公司 |
主分类号: | G06T7/521 | 分类号: | G06T7/521;G06T7/80 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张振军 |
地址: | 100190 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种深度成像系统及其标定方法、深度成像方法、存储介质,深度成像系统包括:投影成像装置,包括光机镜头,用以对预设的投影图案进行投影,并获取待测物体对所述投影图案的反射图像;点云计算模块,用以根据投影图案、反射图像以及光机镜头的参数计算得到点云数据;对焦马达,用以响应于控制指令对所述光机镜头进行至少一次移动,每次移动后通过所述投影成像装置和所述点云计算模块确定相应的点云数据;点云融合模块,用以对多个点云数据进行融合,以得到待测物体的点云数据。本发明技术方案能够准确地获取高度差异超过深度成像系统工作景深的物体的点云。 | ||
搜索关键词: | 深度 成像 系统 及其 标定 方法 存储 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
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