[发明专利]晶格结构模型的生成方法、生成系统、及前处理系统有效
| 申请号： | 202011434718.3 | 申请日： | 2020-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN112560125B | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 林楚堑;高海潮;马劲松;陈先飞;徐静 | 申请（专利权）人： | 上海联泰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/10 | 分类号： | G06F30/10;B29C64/386;B33Y50/00;G06F113/10 |
| 代理公司： | 上海德理达知识产权代理事务所(普通合伙) 31505 | 代理人： | 王再朝 |
| 地址： | 201612 上海市松江区莘砖公*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请公开一种晶格结构模型的生成方法、生成系统、建模系统以及前处理系统、计算机装置、云服务器系统、计算机可读存储介质；其中，所述生成方法包括在建模环境中确定一空间区域及用于创建晶格结构模型的晶格要素后，调用结构体创建模型基于所获取的空间区域及晶格要素确定用于创建晶格模型的原子的描述及原子间的邻接关系；其中，所述空间区域的范围、或晶格要素中包括的参数及参数取值并不限定为固定值，即由所述结构体创建模型生成晶格结构的方式在实际使用场景中用户具有较高的自由度，且适应性强，即可满足多种生产场景的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 晶格 结构 模型 生成 方法 系统 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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