[发明专利]掩膜框架及掩膜结构有效
| 申请号： | 202011437605.9 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN112609154B | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 姜正文;王恩霞;李文星;李伟丽;李慧;刘明星 | 申请（专利权）人： | 合肥维信诺科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;B08B3/08;B08B5/02 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 臧静 |
| 地址： | 230037 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩膜框架及掩膜结构，掩膜框架包括围合形成有中空部的框架本体，框架本体具有相背的支撑面和背面，通过支撑面支撑掩膜版，框架本体上开设有由支撑面向背面的第一方向上凹陷预设厚度的多个下沉部，下沉部在与第一方向垂直的第二方向上贯穿框架本体且与中空部连通，下沉部在第二方向延伸预定长度，下沉部具有位于支撑面的开口以及与开口相对的底面，底面至少部分与背面呈预设角度倾斜，以进行蒸镀定位。本发明实施例提供的掩膜框架及掩膜结构，掩膜框架用于掩膜结构时能够减少药液残留，保证与掩膜版连接后对位抓取对位孔的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 膜结构 | ||
【主权项】：
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