[发明专利]光栅耦合器、用于光栅耦合的装置以及垂直光栅耦合器有效
| 申请号： | 202011441636.1 | 申请日： | 2020-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN112987178B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | S·胡滕;T·范瓦伦伯格;孙鹏;R·G·博索莱伊 | 申请（专利权）人： | 慧与发展有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | G02B6/124 | 分类号： | G02B6/124 |
| 代理公司： | 北京市汉坤律师事务所 11602 | 代理人： | 初媛媛;吴丽丽 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请提供一种具有单独调谐的光栅区段的单次刻蚀的宽带宽光栅耦合器。本文中的示例涉及单次刻蚀层光栅耦合器。具体而言，本文中的实施方式涉及包括平面波导的单次刻蚀层光栅耦合器，其中，第一光栅区段和第二光栅区段被刻蚀在其中。第一光栅区段被配置为以相对于垂直的第一角度散射给定波长的光，并且第二光栅区段被配置为以相对于垂直的第二角度散射给定波长的光。交错调谐第一光栅区段和第二光栅区段使得给定波长的光以期望角度被散射，该期望角度与光纤偏离垂直的角度相同或接近。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 耦合器 用于 耦合 装置 以及 垂直 | ||
【主权项】：
暂无信息
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