[发明专利]一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法在审
| 申请号： | 202011442268.2 | 申请日： | 2020-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN112485975A | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 卫荣汉;赵东阳;姜泽武;许雁雅 | 申请（专利权）人： | 郑州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 450001 河南省郑*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明用于半导体制造的光刻技术领域，提出一种利用条件判断式规则对邻近效应造成曝光图形失真的修正方法。本发明公开了一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法，包括：对光罩上的曝光图形进行像素单元的划分，得到目标图形；对目标图形进行邻近效应的计算得到邻近效应图形；将每一次计算的邻近效应图形与目标图形比对，得到多余点和缺少点；修正多余点和缺少点，得到修正图形；当修正图形的邻近效应图形与目标图形一致时，修正完成，否则将进行循环修正。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 修正 邻近 效应 造成 曝光 图形 失真 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑州大学，未经郑州大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011442268.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
