[发明专利]一种多阶图形纳米压印的方法在审
| 申请号： | 202011446579.6 | 申请日： | 2020-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN112363367A | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 张琬皎;王伟俊 | 申请（专利权）人： | 杭州欧光芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 林超 |
| 地址： | 311200 浙江省杭州市大江东产业*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多阶图形纳米压印的方法。选择衬底；在衬底上形成纳米压印胶层或使用PMMA板；使用第一压印模具对PMMA板或加热至玻璃化温度的纳米压印胶层进行第一次压印；纳米压印胶层或PMMA板冷却固化，冷却固化后与第一压印模具分离，分离后形成第一纳米压印图形；使用第二压印模板对第一纳米压印图形进行第二次压印；纳米压印胶层或PMMA板冷却固化，冷却固化后与第二压印模具分离，分离后形成第二多阶纳米压印图形。本发明不受到最短曝光波长的物理限制，其分辨率只与模具图案尺寸有关，省去了采用图形复制的加工方法，具有效率高、成本低等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 纳米 压印 方法 | ||
【主权项】：
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