[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 202011447002.7 申请日: 2020-12-09
公开(公告)号: CN112951835A 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 辛承俊;金是完;崔凤贤 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11529;H01L27/11548;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11575;H01L27/11582
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 翟然
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件包括下部结构、在下部结构上并从存储器单元区域延伸到连接区域中的堆叠结构、在堆叠结构上在连接区域中的栅极接触插塞、以及在存储器单元区域中穿过堆叠结构的存储器垂直结构,其中堆叠结构包括交替堆叠的层间绝缘层和水平层,其中,在连接区域中,堆叠结构包括阶梯区域和平坦区域,其中阶梯区域包括降低的垫,其中平坦区域包括平坦垫区域、平坦边缘区域以及在平坦垫区域与平坦边缘区域之间的平坦虚设区域,以及其中栅极接触插塞包括在垫上的第一栅极接触插塞、在平坦垫区域上的平坦接触插塞和在平坦边缘区域上的平坦边缘接触插塞。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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