[发明专利]外延设备有效
申请号: | 202011453551.5 | 申请日: | 2020-12-11 |
公开(公告)号: | CN112575314B | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 赵万辉 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请实施例提供了一种外延设备。外延设备包括基座环、上顶盖和下顶盖;基座环包括相背的第一面和第二面,上顶盖和下顶盖分别与第一面和第二面密封连接,上顶盖与下顶盖形成封闭空间,封闭空间中设置有基座,基座用于放置基片;基座环上设置有进气口和出气口,且封闭空间中设置有隔挡件,隔挡件为环状结构,用于遮挡基座环,隔挡件与上顶盖之间存在间隙,隔挡件上设置有进气道和出气道,进气道与进气口连通,出气道和出气口连通;上顶盖包括顶盖和上凸缘,顶盖与上凸缘连接,上凸缘与第一面密封连接,且上凸缘上设置有清洁气体容纳壳,清洁气体容纳壳与清洁气体储气件连接,上凸缘上开设有气体通道,清洁气体容纳壳与间隙通过气体通道连通。 | ||
搜索关键词: | 外延 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的