[发明专利]一种二极管外延结构在审

专利信息
申请号: 202011459828.5 申请日: 2020-12-11
公开(公告)号: CN112563376A 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 夏黎明;李青民;任占强;李波;李会利;杜美本 申请(专利权)人: 西安立芯光电科技有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 郑丽红
地址: 710077 陕西省西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供一种二极管外延结构,解决现有二极管外延结构存在波导折射率较低、光损耗较大的问题。该二极管外延结构包括由下至上依次设置的N型GaAs衬底层、N型GaAs缓冲层、N型AlXGa(1‑X)As下限值层、AlXGa(1‑X)As波导层、GaYIn(1‑Y)As量子阱层、GaAs量子垒层、GaYIn(1‑Y)As量子阱层、GaAs量子垒层、AlXGa(1‑X)As波导层、P型AlXGa(1‑X)As下限制层、P型AlXGa(1‑X)As下限制层、P型AlXGa(1‑X)As下限制层、P型GaAs电流扩展层和P型GaAs电极接触层。该结构降低了波导势垒,增加了波导的折射率,增强波导对光的束缚性,从而提高了器件的发光效率。
搜索关键词: 一种 二极管 外延 结构
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