[发明专利]一种二极管外延结构在审
申请号: | 202011459828.5 | 申请日: | 2020-12-11 |
公开(公告)号: | CN112563376A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 夏黎明;李青民;任占强;李波;李会利;杜美本 | 申请(专利权)人: | 西安立芯光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 郑丽红 |
地址: | 710077 陕西省西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: |
本发明提供一种二极管外延结构,解决现有二极管外延结构存在波导折射率较低、光损耗较大的问题。该二极管外延结构包括由下至上依次设置的N型GaAs衬底层、N型GaAs缓冲层、N型Al |
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搜索关键词: | 一种 二极管 外延 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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