[发明专利]一种可用于光电子器件的防潮结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202011463276.5 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112509984A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 于军胜;周殿力;李嘉文;蒋泉 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | H01L23/00 | 分类号： | H01L23/00;H01L21/56;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 梁伟东 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种可用于光电子器件的防潮结构及其制备方法，属于防潮薄膜结构领域；本发明的防潮薄膜结构从下到上依次为，附着面和薄膜结构，所述薄膜结构的总厚度不超过20um；所述薄膜结构是由混合溶剂、防潮剂和保护剂的混合溶液经喷涂而成；薄膜结构以质量成分计，分别为，混合溶剂：40～60％、防潮剂：30～40％、保护剂：10～20％；本发明的薄膜结构是先对光电子器件表面或基底表面进行清洗，然后分别制备混合溶剂、防潮剂和保护剂、按照比例进行混合；将混合溶液采用喷涂法喷涂到光电子器件表面或基底表面；然后烘干处理即可；通过本发明可以解决现有的SiO |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 光电子 器件 防潮 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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