[发明专利]一种可用于光电子器件的防潮结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202011464534.1 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112509985A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 于军胜;周殿力;侯思辉;杨根杰 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | H01L23/00 | 分类号： | H01L23/00;H01L21/56;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人： | 梁伟东 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种可用于光电子器件的防潮结构及其制备方法，属于防潮材料技术领域，其中，一种可用于光电子器件的防潮结构，从下到上依次为附着面和防潮薄膜结构，附着面为基底的表面或者光电子器件的表面；防潮薄膜结构的总厚度不超过15um；防潮薄膜结构是由混合溶剂、防潮剂和保护剂的混合溶液经喷涂而成；防潮薄膜结构以质量成分计，分别为，混合溶剂：45～65％、防潮剂：25～35％、保护剂：10～20％；一种可用于光电子器件的防潮结构的制备方法如下：先对光电子器件表面或基底表面进行清洗，然后分别制备混合溶剂、防潮剂和保护剂、并将这三者混合喷涂到光电子器件表面或基底表面，然后进行80℃烘干处理5min，得到防潮薄膜结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光电子 器件 防潮 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学，未经电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011464534.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种粉末产品收集设备及其风速控制方法
- 下一篇：LPDDR芯片测试装置
