[发明专利]一种天线反射器双面金属薄膜图形整体精确定位方法在审
申请号: | 202011464916.4 | 申请日: | 2020-12-14 |
公开(公告)号: | CN112736477A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 尚凯文;王瑞;吴敢;曹生珠;魏广;杨建平;骆水莲;赵栋才;格桑顿珠;张延帅 | 申请(专利权)人: | 兰州空间技术物理研究所 |
主分类号: | H01Q15/00 | 分类号: | H01Q15/00;H01Q15/14 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 田亚琪 |
地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明公开了一种天线反射器双面金属薄膜图形整体精确定位方法,通过在反射器裙边位置制备正反双面一体化靶标,从而避免或减小由于反射器正反两面靶标自身精度误差带来的影响;并将CCD可视放大辅助定位技术应用于天线反射器激光刻蚀,从而大幅度提高天线反射器双面定位精度,以便于后续的激光刻蚀加工过程中确保正反双层金属薄膜图形整体相对位置精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 天线 反射 双面 金属 薄膜 图形 整体 精确 定位 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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