[发明专利]暴露高指数{114}面的锐钛矿氧化钛多面体纳/微米光催化剂的制备方法有效
申请号: | 202011468135.2 | 申请日: | 2020-12-15 |
公开(公告)号: | CN112573567B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 王聪慧;黎俊;杨佳文;钟玉霞;汪萌;李忆莲;陈康;刘阳阳 | 申请(专利权)人: | 湘潭大学 |
主分类号: | C01G23/053 | 分类号: | C01G23/053;C01G23/047;B82Y40/00;B01J21/06;B01J37/06;B01J35/02 |
代理公司: | 湘潭市汇智专利事务所(普通合伙) 43108 | 代理人: | 冷玉萍 |
地址: | 411105 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: |
本发明公开了暴露高指数{114}面的氧化钛多面体纳/微米光催化剂的制备方法。本发明的制备方法主要包括氧化钛多面体母晶的合成和对氧化钛多面体母晶的刻蚀,最终制备了暴露高指数{114}面的规则多面体TiO |
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搜索关键词: | 暴露 指数 114 锐钛矿 氧化 多面体 微米 光催化剂 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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