[发明专利]暴露高指数{114}面的锐钛矿氧化钛多面体纳/微米光催化剂的制备方法有效

专利信息
申请号: 202011468135.2 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112573567B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 王聪慧;黎俊;杨佳文;钟玉霞;汪萌;李忆莲;陈康;刘阳阳 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: C01G23/053 分类号: C01G23/053;C01G23/047;B82Y40/00;B01J21/06;B01J37/06;B01J35/02
代理公司: 湘潭市汇智专利事务所(普通合伙) 43108 代理人: 冷玉萍
地址: 411105 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了暴露高指数{114}面的氧化钛多面体纳/微米光催化剂的制备方法。本发明的制备方法主要包括氧化钛多面体母晶的合成和对氧化钛多面体母晶的刻蚀,最终制备了暴露高指数{114}面的规则多面体TiO2。本发明将“自上而下”和“自下而上”两种策略相结合,用于调控氧化钛的形貌。基于这两种策略中热力学有利的方向控制晶体生长,得到了暴露{114}面的锐钛矿氧化钛晶体,得到的晶体形貌均一。{114}面的暴露比例可调,由于其独特的表面结构,{114}面显示了优异的光催化性能和光电化学性能。
搜索关键词: 暴露 指数 114 锐钛矿 氧化 多面体 微米 光催化剂 制备 方法
【主权项】:
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