[发明专利]一种可擦写体相光栅的制备方法在审
| 申请号： | 202011469180.X | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112596138A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 邹崇文;陈宇粮;胡昌隆;张国斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种可擦写体相光栅的制备方法，结合光刻技术，在常温下使用活性金属和酸性溶液在氧化物薄膜内部制造周期图形，方法简单。该方法所制备的体相光栅，表面光滑，不仅拥有相比于传统刻槽光栅更低的背底散射性能，而且拥有更好的防刮擦损伤能力。除了制备常规的条纹状，还可以制备多种复杂的周期性图形，拓展了光栅的衍射功能和用途。最后，所制备的周期性体相光栅可以通过在空气中简单退火擦除周期性结构，从而可以进行多次重复加工，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 擦写 光栅 制备 方法 | ||
【主权项】：
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