[发明专利]一种用于水热温差法晶体生长的双层旋转内挡板在审
| 申请号： | 202011470286.1 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112481692A | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 易际让;王晓刚;刘盛浦 | 申请（专利权）人： | 山东博达光电有限公司 |
| 主分类号： | C30B7/10 | 分类号： | C30B7/10 |
| 代理公司： | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人： | 金祺 |
| 地址： | 271500 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于水热温差法晶体生长的双层旋转内挡板，被置于水热高压釜的内腔中，包括大小相等、且轴心线相重合的上挡板和下挡板；上挡板(1)与下挡板(3)之间的间距为可调间距；在上挡板(1)上分别设有上挡板下降通孔(6‑1)、上挡板上升通孔(6‑2)；在下挡板(3)上分别设有下挡板下降通孔(6‑3)和下挡板上升通孔(6‑4)；相对应的上挡板下降通孔(6‑1)和下挡板下降通孔(6‑3)的正投影与上挡板(1)轴心线的夹角为大于0°～小于90°。本发明通过对双层挡板的间距调整和上下板通孔的旋转角度的限定，改变矿化剂液体对流状态，使得高压釜生长区的晶体生长速率趋于一致，提高晶体的结晶均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 温差 晶体生长 双层 旋转 挡板 | ||
【主权项】：
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