[发明专利]PDLC膜电极制作方法、负压平台及PDLC膜有效
| 申请号： | 202011470771.9 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112596291B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 吴永隆;李炳宏;何文斌;孙瑞 | 申请（专利权）人： | 上海隆昇光电新材料有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1334 | 分类号： | G02F1/1334;G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 张伟 |
| 地址： | 201000 上海市嘉定*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种PDLC膜电极制作方法、负压平台及PDLC膜，涉及电极加工技术领域，该PDLC膜电极制作方法包括以下步骤：使PDLC膜的待加工面朝上放置于负压平台，并使PDLC膜的待加工面的液晶活化区域与负压平台的透明区域相重合，其他区域与负压平台的金属材质区域相重合；活化PDLC膜的液晶层；根据半切断区域，切割并撕下位于液晶层上面的PET层和导电层，将活化后的液晶层清扫掉露出位于液晶层下面的导电层，以形成相应的电极。解决了现有技术中存在的电极制作方法的生产产量较低的技术问题，达到了提高生产产量的技术效果。 | ||
| 搜索关键词： | pdlc 电极 制作方法 压平 | ||
【主权项】：
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