[发明专利]发光器件、发光器件制备方法及发光显示设备在审

专利信息
申请号: 202011471424.8 申请日: 2020-12-14
公开(公告)号: CN112582563A 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 刘俊伟;颜志敏;苏圣勋 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 代理人: 唐维虎
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明实施例所提供的发光器件、发光器件制备方法及发光显示设备,在将发光器件的层级结构倒置后,在反射阴极层和发光层之间增设了透明阴极层,能够增加发光层到达反射阴极层的光学距离,这样可以确保发光器件的微腔结构在倒置后与在倒置前相比基本不会改变,从而改善或避免光子在发光器件内部移动时互相削弱的问题,这样有利于光子尽可能多地从发光器件内射出,从而提高发光器件的外量子效率和电流效率。此外,通过增设透明阴极层而不是通过增加电子传输层的厚度来增加发光层到达反射阴极层的光学距离,能够避免对发光器件施加更高的电压以确保外量子效率。如此,可以确保倒置的发光器件的工作性能与正置的发光器件的工作性能几乎没有差别。
搜索关键词: 发光 器件 制备 方法 显示 设备
【主权项】:
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