[发明专利]套刻误差检测用图形结构及方法有效
| 申请号： | 202011472159.5 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112612185B | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 陈媛;邱瑾玉;耿玉慧;宋之洋 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人： | 高园园 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种套刻误差检测用图形结构及方法。包括第一图形及第二图形，形成于上下叠置的两个膜层上，第一图形和第二图形上下对应设置且中心点位于同一垂线上；第一图形包括单个第一矩形图案，第二图形包括单个或多个第二矩形图案，第一矩形图案的长边与短边的比值小于第二矩形图案的长边与短边的比值，第二矩形图案的中间部分沿垂直第一矩形图案方向的正投影落在第一矩形图案内，与中间部分相连接的两端的正投影位于第一矩形图形外。本发明在实现量测目的的前提下可以减少图形占用的平面面积，这使得其可以分布于晶粒中，因而其切割道film stack与晶粒内器件更加接近，可以有效减小套刻误差，提高生产良率和降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 误差 检测 图形 结构 方法 | ||
【主权项】：
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