[发明专利]一种真空蒸镀用基片辅助降温系统及工作方法有效

专利信息
申请号: 202011474873.8 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112663013B 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 熊继光;赵志国;秦校军;肖平;赵东明;邬俊波;董超;刘家梁;王百月;冯笑丹;梁思超;王森;张杰 申请(专利权)人: 华能新能源股份有限公司;中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/56;C23C14/24;H01L31/18
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李鹏威
地址: 100036 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种真空蒸镀用基片辅助降温系统及工作方法,包括设置在蒸镀舱室内的水冷基板,以及开设在水冷基板上的进水口和出水口,所述水冷基板上开设通孔,安装有第一阀门的连接管一端与通孔连接,连接管的另一端与舱室外液氮存储装置连通;所述蒸镀舱还连接有分子泵,所述分子泵与蒸镀仓之间通过管道连通,管道上安装有第二阀门。在传统水冷降温方法的基础上,添加辅助降温装置,在传统水冷无法满足降温需求的时候,对基片进行强制降温,提高降温效率,避免电池膜层过热受损。
搜索关键词: 一种 真空 蒸镀用基片 辅助 降温 系统 工作 方法
【主权项】:
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