[发明专利]一种制备窄粒度分布镍钴锰三元前驱体的方法在审

专利信息
申请号: 202011475421.1 申请日: 2020-12-14
公开(公告)号: CN112607788A 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 许开华;刘坤;吕志;王登登;邹书文;袁先虎;李蕾 申请(专利权)人: 荆门市格林美新材料有限公司
主分类号: C01G53/00 分类号: C01G53/00;H01M4/505;H01M4/525
代理公司: 中国有色金属工业专利中心 11028 代理人: 范威
地址: 448000 湖北省荆*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种制备窄粒度分布镍钴锰三元前驱体的方法,通过在混合品对应的大颗粒产品的反应初期,通过优化生产工艺,在反应初期降低产品粒度分布宽度,使产品的粒度分布变窄,颗粒的一致性更好,制备出更加符合客户指标要求的镍钴锰三元前驱体成品。通过调整生产工艺,可以使产品的粒度分布达到:(D90‑D10)/(D90+D10)*100=(13‑15),成功降低该款产品粒度分布宽度,解决了现有产品粒度分布结果粒度分布偏宽,产品颗粒一致性较差的问题。
搜索关键词: 一种 制备 粒度 分布 镍钴锰 三元 前驱 方法
【主权项】:
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