[发明专利]一种湿法刻蚀制备硅基OLED阳极的方法在审
| 申请号： | 202011478747.X | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112289965A | 公开（公告）日： | 2021-01-29 |
| 发明（设计）人： | 杨震元;孙扬;吴康敬 | 申请（专利权）人： | 浙江宏禧科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/00;H01L51/52 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 金丽英 |
| 地址： | 322000 浙江省金华市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种湿法刻蚀工艺制备硅基OLED阳极的方法，包括以下步骤：用去离子水清洗硅基板，在硅基板上蒸镀阳极层，在阳极层上形成抗反射涂层和光刻胶层，用光刻技术制备出图形像素，采用腐蚀溶液腐蚀底部不被抗反射涂层和光刻胶层保护的阳极层，用N‑甲基吡咯烷酮溶液去除抗反射涂层和光刻胶层，形成阳极像素点，对硅基板进行清洗、烘干。本发明针对以硅片为衬底的微型OLED显示器，使用湿法刻蚀工艺代替传统湿法剥离方法制备阳极像素点，使子像素间距更小，像素密度高，从而在0.6英寸的微型OLED显示器上实现分辨率为1280*1024的微型全彩有机显示器，相比于干法刻蚀工艺，湿法刻蚀工艺的成本更低，易实现量产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 湿法 刻蚀 制备 oled 阳极 方法 | ||
【主权项】：
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