[发明专利]影像感测件、光学结构及其形成方法

摘要

一种影像感测件、光学结构及其形成方法，光感元件可形成在半导体基材的前侧。具有第一折射率的光学折射层可形成在半导体基材的背侧。包含开口的栅格结构形成在光学折射层上。遮蔽材料层形成在栅格结构及光学折射层上。利用非等向性蚀刻制程对遮蔽材料层进行非等向性蚀刻，并连带蚀刻光学折射层的材料，以于光学折射层的物理暴露区形成非平面远端表面部分，其中此些非平面远端表面部分包含随机突出部。光学透明层可形成于光学折射层的非平面远端表面部分，且光学透明层具有不同于第一折射率的第二折射率。折射界面将入射光折射至随机方向，且改善光感元件的量子效率。